Essais & Simulations 152

DOSSIER RENDEZ-VOUS De

DOSSIER RENDEZ-VOUS De nombreuses solutions à découvrir sur Global Industries en matière de contrôle qualité À l’occasion du grand rendez-vous de l’industrie du 7 au 10 mars prochains à Lyon, le leader en métrologie industrielle Zeiss a investi un îlot de 165 m² situé Hall 2 - stand E72 en co-exposition avec son partenaire Rubis Control. Avec toujours cette ambition de valoriser la métrologie industrielle de demain, le fabricant présentera ses solutions, prestations & technologies de pointe en contrôle qualité avec de nombreuses applications. Durant ces quatre jours de salon, les visiteurs auront l’opportunité de rencontrer sur le stand Zeiss des experts métiers, de participer à des conférences thématiques, d’assister à des démonstrations en temps réel de scan et de mesure de pièces industrielles et de découvrir les nouveautés produits, comme le nouveau scanner 3D portable T-SCAN Hawk 2, lancé officiellement le 31 janvier dernier. Sur son stand E72 - Hall 2, Zeiss exposera ses solutions de métrologie et de contrôle qualité autour de trois univers industriels-clés : l’industrie aéronautique et spatiale, l’univers médical ou encore l’e-Mobilité. DES CONFÉRENCES ET DES TEMPS FORTS AUTOUR DE L’INDUSTRIE 4.0 Le salon Global Industrie sera également l’occasion pour Zeiss de mettre à l’honneur ses différentes solutions autour de l’industrie 4.0 et ses partenaires clés. Durant les quatre jours, des experts se relaieront pour animer des conférences sur des thématiques qui apporteront des éclairages sur la métrologie et le contrôle qualité de demain. D’une part, le Cetim Saint-Étienne (Loire) interviendra sur la méthode d’estimation des incertitudes via la machine virtuelle Zeiss VCMM, le mercredi 8 mars à 11h30. D’autre part, l’entreprise Kartesis, spécialisée dans la fabrication de pièces complexes, racontera son expérience de l’industrie 4.0 en métrologie le jeudi 9 mars à 11h30. Par ailleurs, le spécialiste des solutions logicielles innovantes pour la qualité, Ellistat, interviendra les mercredi 8 mars et jeudi 9 mars à 14h30. Aussi, Rubis Control, co-exposant et partenaire Zeiss, présentera son offre de prestations de service en métrologie, tomographie et microscopie, les mardi 7 mars à 11h30 et vendredi 10 mars à 14h30. Enfin, les logiciels Zeiss seront présentés afin de faire connaître les technologies et fonctionnalités-clés de la suite logicielle Zeiss : le logiciel De Warp le mardi 7 mars à 14h30, et Zeiss Piweb & solutions Smart Services, le vendredi 10 mars à 11h30 ● Valoriser la métrologie du futur Zeiss sera également présent sur d’autres espaces stratégiques du salon, tant dans la promotion des nouvelles technologies de demain que dans la mise en valeur et le recrutement de futurs talents. Par exemple, au Congrès international de la métrologie (CIM), Herminso Villarraga-Gómez, PhD, chef de produit Solutions Rayons-X Zeiss, interviendra le mardi 8 mars à 16h sur le thème : « Améliorer la précision des mesures dimensionnelles avec les microscopes à rayons X 3D ». 40 I ESSAIS & SIMULATIONS • N°152 • Février - Mars - Avril 2023

COMMUNIQUÉ Mieux détecter les particules et les corps étrangers Afin de lutter contre ce phénomène récurrent dans l’industrie, le groupe 6Napse a décidé de réunir les compétences de ses laboratoires pour mener un meilleur contrôle qualité au niveau des matériaux, et ce dans une multitude de secteurs d’activité. Les particules et pollutions sont des corps étrangers redoutés des industriels car ils peuvent avoir un impact sur la conformité d’un produit et sa mise sur le marché. Il est donc crucial de maîtriser les pollutions, issues de tous les matériaux pouvant en générer (verre, polymère, métal, minéral, composites). Le groupe 6Napse réunit des laboratoires dédiés au contrôle qualité des matériaux avec une expertise reconnue pour l’analyse et l’identification de particules et pollutions. Il accompagne tous types d’industries : pharmaceutique, médical, aéronautique, électronique, agroalimentaire, cosmétique, spiritueux, qualité de l’eau, etc. L’INTÉRÊT DES ANALYSES PAR MEB-EDX ET PAR SPECTROMÉTRIE IRTF L’équipe dédiée matériaux réalisent des observations d’images à haute résolution et une particule de quelques µm suffit à l’analyse d’une pollution. L’analyse par MEB-EDX permet d’identifier la présence des éléments chimiques sur tout type d’échantillons : métalliques, minéraux ou organique. D’une part, le MEB (technique de microscopie électronique) produit des images en haute résolution de la surface de l’échantillon. D’autre part, son couplage à la microanalyse X rend possible l’identification des éléments contenus dans la matière. Cette technique permet donc d’obtenir simultanément des informations morphologiques (images) et chimiques (composition élémentaire) d’un échantillon. L’analyse par spectrométrie IRTF couplée à la microscopie, quant à elle, permet d’identifier l’origine d’une particule. « Nous établissons avec les industriels des références et bases de données matériaux afin d’identifier précisément une source de pollution (pouvant être minérale, organique ou métallique) », souligne Antoine Pavlic, directeur d’exploitation du groupe 6Napse. VERS DAVANTAGE D’ANALYSE DE NANOPARTICULES Depuis quelques années, les industriels connaissent une réglementation plus forte sur les nanoparticules et leur contrôle. C’est pourquoi les laboratoires proposent l’identification et l’analyse de nanoparticules (entre 0,3 nm et 10 000 nm). Par ailleurs, le contrôle qualité s’étend en fin de chaîne avec la récupération des produits présentant une défaillance pour une analyse en urgence. Ainsi, le groupe 6Napse accompagne le développement de produits et assure le suivi et le contrôle des matériaux sur tout le cycle de vie du produit ● ESSAIS & SIMULATIONS • N°152 • Février - Mars - Avril 2023 I41